GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。
标配澳门新莆京app9817CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10:1*）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
经过量产验证的全自动200/300mm高精度、高深宽比结构纳米压印光刻生产线；
CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性；
Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位；
设备内自动复制柔性复合工作模具，自动更换工作模具，适合连续生产；
全自动预处理流程，包括晶圆清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理（选配）等；
全自动纳米压印光刻流程，包括自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模等；
全部工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量；
标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料，可选配Post Cure功能；
产能可达100片*每小时（取决于配置、材料、工艺等因素），适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产；
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。
| 兼容基底尺寸 |
200mm(Open cassette，SMIF可定制) / 300mm(FOUP) 特殊尺寸可定制 |
| 支持基底材料 | 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
| 上下片方式 | Cassette to cassette全自动上下片 |
| 晶圆预对位 | 光学巡边预对位 |
| 纳米压印技术 |
紫外纳米压印（UV-NIL），CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
| 纳米压印预处理工艺步骤 |
清洗（毛刷、二流体、兆声波）、旋涂匀胶、加热烘烤、冷却、plasma表面处理等 |
| 压印精度 | 优于10nm* |
| 结构深宽比 | 优于10:1* |
| 残余层控制 | 可小于10nm* |
| 紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
| 设备内部环境控制 | 标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10* |
| 自动压印 | 支持 |
| 自动脱模 | 支持 |
| 自动工作模具复制 | 支持 |
| 自动工作模具更换 | 支持 |
| 模具基底对位功能 | 自动对位（选配） |
| Post Cure | 选配 |
| AOI在线检测 |
选配 |
| 产能 | 可大于100片每小时* |